2月5日消息：晶方科技跌5.2%，光學(xué)概念早盤(pán)報跌

　　2月5日早盤(pán)消息，截至發(fā)稿時(shí)，光學(xué)概念報跌，晶方科技（-5.244%）領(lǐng)跌， 隆利科技（-4.472%）、蘇大維格（-3.516%）、雙星新材（-2.873%）等個(gè)股紛紛跟跌。相關(guān)光學(xué)概念股有：

　　晶方科技：除了引進(jìn)的光學(xué)型晶圓級芯片尺寸封裝技術(shù)、空腔型晶圓級芯片尺寸封裝技術(shù)，公司順應市場(chǎng)需求，自主獨立開(kāi)發(fā)了超薄晶圓級芯片尺寸封裝技術(shù)、硅通孔晶圓級芯片尺寸封裝技術(shù)，應用于MEMS、生物身份識別系統、發(fā)光電子器件的晶圓級芯片尺寸封裝技術(shù)、扇出型封裝技術(shù)、系統級封裝技術(shù)及應用于汽車(chē)電子產(chǎn)品的封裝技術(shù)等，這些技術(shù)廣泛應用于影像傳感芯片、環(huán)境感應芯片、醫療電子器件、微機電系統、生物身份識別芯片。

　　隆利科技：產(chǎn)品精密組裝車(chē)間方面，公司共擁有多條帶CCD定位的全自動(dòng)組裝生產(chǎn)線(xiàn)，配備自動(dòng)壓膠、自動(dòng)噴碼設備和全自動(dòng)光學(xué)檢測設備，全套設備使用傳送帶連接作業(yè)，實(shí)現“上料-組裝-壓膠-噴碼-檢測”全流程的智能化生產(chǎn)。

　　蘇大維格：經(jīng)多年發(fā)展，蘇大維格成為微納光電材料、新型顯示和納米印刷領(lǐng)域自主創(chuàng )新的典型企業(yè)，涉及微納光學(xué)印材、納米印刷、3D成像材料、平板顯示、高端智能微納裝備的研發(fā)與產(chǎn)業(yè)化，在深交所A股創(chuàng )業(yè)板上市。

　　雙星新材：江蘇雙星彩塑新材料股份有限公司2011年6月2日深交所掛牌上市，登陸中國資本市場(chǎng)，是一家專(zhuān)業(yè)從事高分子復合材料、光學(xué)膜、節能窗膜、光電新材料、可變信息材料、新能源材料、熱收縮材料、聚酯工業(yè)基材、功能性膜級聚酯切片等產(chǎn)品生產(chǎn)和銷(xiāo)售的國家高新技術(shù)企業(yè)、中國雙向拉伸薄膜產(chǎn)業(yè)基地、國家火炬宿遷薄膜特色產(chǎn)業(yè)基地、中國輕工業(yè)塑料行業(yè)十強企業(yè)，2012年“雙星SHUANGXING”商標榮膺“中國馳名商標”。

　　數據僅參考，不構成投資建議，據此操作，風(fēng)險自擔。